1月13日，由中国美术馆策划并主办的“未来诗篇，技艺的笔触和留白——科技艺术新样貌”展览与观众见面。

 

本次展览展出8位当代青年艺术家的创作实践，集中呈现他们将科技融入艺术创作的探索。展品涵盖装置、数字沉浸装置等多种媒介形态，既有从传统山水精神中蜕变而出的数字意境，也有直面人工智能技术的思辨。围绕“传统艺术语言的当代转化”与“文明视觉表征的智能化演绎”等命题，参展作品展开多维度的实验与深度挖掘。艺术家们借助科技手段，在建构诗性艺术语言的同时，积极探索中华文明母题的当代表达路径。

 

中国美术馆始终关注并引导科技与艺术的深度融合。此次展览不仅是一场“技术+艺术”的创新成果展示，更是一场关于未来艺术可能性的学术探讨。观众可感知科技与艺术交融共生的发展趋势，畅想二者协同塑造的未来文化图景。

 

展览由中国美术馆展览部柳淳风、李暨涵担任策展人，各部门通力协作。展览呈现在中国美术馆一层7号厅，展出至1月30日（周一闭馆）。

 

 

 

 

 

作品赏析

 

（按艺术家姓氏笔划排序）

 

 

回旋  包蓉  装置

190×130×130cm  2025年

 

 

回游-波系列  汤杰  装置

290×75×290cm  2025年

 

 

丛林的预言  刘佳玉  数字沉浸影像

可变尺寸  2023年

 

 

浑沦  苏永健  影像装置

520×520×400cm  2025年

 

 

四时：冬寂  洪强  影像装置

可变尺寸  2025年

 

 

墨山  赵梓君  影像装置

1000×800cm  2021年

 

 

AI气候治理：回溯性的当下  韩娅娟  影像装置

可变尺寸  2025年

 

 

平直曲面的天水如一  靳军  数字沉浸影像

可变尺寸  2025年